X 光光电子能谱仪 (XPS/ESCA)
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发布: 超级管理员/
发布时间:2023-07-11 15:38:04/
一、项目介绍：
X射线光电子能谱仪利用X射线激发材料表面以下1纳米到10纳米范围内所逸出光电子的结合能及数量，从而得到X射线光电子能谱来测定样品中的元素构成及元素化学态和电子态。借助于离子束的剥蚀，X射线光电子能谱还能实现深度剖析，并广泛应用于薄膜各层及界面分析。
全自动化分析，可以轻松地对绝缘样品达到自动中和效能
高性能深度分析，75x75mm样品台
全自动且高可靠度的测量，最佳能量分辨率低于0.48 eV（Ag3d5/2）
X射线光电子能谱 XPS主要应用于材料表面表征、元素化学价态、膜层深度测试；
1、材料表面表征
信号来源：表面下1-10nm.
利用0-1300eV 宽谱确定表面元素/污染物信息。
利用精扫确定表面元素/污染物含量。
能量分辨率：~0.48eV
检测元素范围：Li~U
检测精度： 0.1~1.0 at%
因样品在运输过程中可能受空气污染物影响，求实检测将提供样品原貌表面分析，以及5nm溅射清理后的表面分析
2、元素化学价态
利用元素精扫结果进行分峰分析，以获得相应元素化学价态。
元素价态可用于分析：表面氧化，卤素污染，化合物推定。
通过与深度结果综合分析，可以用于推测氧化层厚度。
3、膜层深度测试
通过离子溅射剥离测试区域最外层，对样品进行逐层分析。
溅射深度：1-500nm
溅射深度精度：1-10nm
溅射离子源：氩离子
可用于推测氧化层深度，掺杂含量及深度，分析膜层结构。
二、应用案例：
关键词： 第三方检测机构,第三方测试中心,检测质检报告,检测单位,检测实验室,检测平台
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